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调制周期对TaN/VN纳米多层膜的影响

Modulation Period and Nano TaN/VN Multilayers

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【作者】 张学华曹猛杨瑾刘桐王明霞邓湘云李德军

【Author】 Zhang Xuehua,Cao Meng,Yang Jin,Liu Tong,Wang Mingxia,Deng Xiangyun and Li Dejun*(College ofPhysics and Electronic Information Science,Tianjin Normal University,Tianjin300074,China)

【机构】 天津师范大学物理与电子信息学院天津师范大学物理与电子信息学院 天津300074天津300074

【摘要】 本研究选择钽和钒的氮化物作为个体层材料,利用射频磁控溅射系统制备TaN、VN及一系列的TaN/VN多层薄膜。通过XRD和纳米力学测试系统分析了该体系合成以后的晶体结构、调制周期对力学性能的影响。结果表明:多层膜的纳米硬度值普遍高于两种个体材料混合相的硬度值;当调制周期为30 nm时TaN/VN多层膜达到最大硬度31 GPa,结晶出现多元化,多层膜体系的硬度、弹性模量以及耐磨性能均达到最佳效果。

【Abstract】 TaN/VN multilayers with a nanoscale modulation periold were grown by RF magnetron sputtering.It microstructures and mechanical properties were characterized with X-ray diffraction(XRD),a nano-indenter and a profiler.The results show that the multilayers have higher nanohardness than that of TaN,VN coatings,and their mixtures.The nanohardness of the multilayer,31 GPa,optimizes at a modulation period of 30 nm.Moreover,its elastic modulus and tribological property are also better than that of the multilayers with different modulation periods.

【基金】 国家自然科学基金项目(No.50472026);天津市应用基础研究重点项目(No.043801011)
  • 【文献出处】 真空科学与技术学报 ,Chinese Journal of Vacuum Science and Technology , 编辑部邮箱 ,2007年05期
  • 【分类号】TB383.2
  • 【被引频次】5
  • 【下载频次】170
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