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无紫外光照射下n型15R-SiC及6H-SiC晶体的电化学腐蚀

Electrochemical etching of n-type 15R-SiC and 6H-SiC without UV illumination

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【作者】 王光红王玉芳施成营郝建民冯敏曹学伟

【Author】 WANG Guang-hong1,WANG Yu-fang1,SHI Cheng-ying2,HAO Jian-min3,FENG Min1,CAO Xue-wei1 (1.College of Physics,Nankai University,Tianjin 300071,China; 2.College of Information Technical Science,Nankai University,Tianjin 300071,China 3.Electronics Technology Group Corporation,No.46 Research Institute,Tianjin 300220,China)

【机构】 南开大学物理科学学院南开大学信息技术科学学院中国电子科技集团公司第四十六研究所南开大学物理科学学院 天津300071天津300071天津300220

【摘要】 本文在无紫外光照射下通过电化学腐蚀法制备了多孔n型15R-及6H-SiC,并用扫描电子显微镜(SEM),拉曼散射及X射线衍射仪(XRD)对多孔层的结构进行了分析。结果表明:晶体的晶型及氧化条件等因素对多孔结构有较大影响。首次观察到多孔n型15-SiC的半圆管状结构,其孔隙率约是66%。

【Abstract】 The porous n-type 15R-SiC and 6H-SiC were prepared by electrochemical etching without external illumination.The porous layers were analyzed using scanning electron microscopy(SEM),Raman scattering,and X-ray diffraction(XRD). The porous structures depend on the crystal structure of substrates and anodization conditions.For the porous 15R-SiC,the semi-cylinder structure of the porous network has been observed and the porosity is about 66%.

  • 【文献出处】 光散射学报 ,The Journal of Light Scattering , 编辑部邮箱 ,2007年04期
  • 【分类号】O613.72
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