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基于旋涂的纳米压印技术研究

Nanoimprint Based on Spin-Coating

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【作者】 顾盼刘景全孙洪文陈迪

【Author】 GU Pan,LIU Jing-quan,SUN Hong-wen,CHEN Di(National Key Laboratory of Nano/Micro Fabrication Technology,Key Laboratory forThin Film and Microfabrication of Ministry of Education,Institute of Micro and NanoScience and Technology,Shanghai Jiaotong University,Shanghai 200030,China)

【机构】 上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室上海交通大学微纳科学技术研究院微米/纳米加工技术国家级重点实验室薄膜与微细技术教育部重点实验室 上海200030上海200030

【摘要】 尝试使用一种新的工艺———旋涂法来达到图案复制的目的,介绍了旋涂法完成图案复制的实验过程,就印章及其复制品的尺寸作了对比,并分析了实验中观察到的缺陷。得出在精确控制实验条件的前提下,可以通过旋涂方法得到高品质微纳米级图案的结论。

【Abstract】 Nanoimprint lithography is a promising technique of the Next Generation Lithography(NGL).In the technological process of imprint,the key process is how to transfer the pattern.The traditional methods of pattern replication are hot embossing and injection molding,but in this experiment the spin-coating is attempted to transfer from the template to the PDMS.The images on PDMS film are compared with the template.And the causes of some defects are anlaysed.It approves that replication can also be accomplished by spin-coating.

【基金】 上海市科委纳米专项资助项目(0352nm010);国家863计划非硅MEMS加工技术及其应用研究资助项目(2004AA404260)
  • 【文献出处】 微细加工技术 ,Microfabrication Technology , 编辑部邮箱 ,2005年04期
  • 【分类号】TN405
  • 【被引频次】5
  • 【下载频次】419
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