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电子束曝光机背散射电子检测电路的研究

Research on Backscattered Electron Detecting Circuit of Scanning-electron-beam Lithography System

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【作者】 李晨菲薛虹

【Author】 LI Chen-fei, XUE Hong (Institute of Electrical Engineering, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100080, China)

【机构】 中国科学院电工研究所中国科学院电工研究所 北京100080北京100080

【摘要】 概述了扫描电子束曝光机的检测对准原理,介绍了背散射电子信号特性及其在对准技术中的作用,并对背散射电子检测电路的组成和工作原理进行了阐述。同时给出了一种背散射电子检测电路实验装置的框图和原理图,所设计的多级滤波电路和PCB板的布线方式实现了对模拟信号处理电路噪声的抑制,从而得到了清晰的专用对准标记形貌图像。

【Abstract】 The registration principle of Scanning-electron-beam Lithography System, characteristic of backscattered electron signal and its function in registration technology, as well as backscat- tered electron detection circuit’s components and working principle are summarized·Meanwhile , the block and principle diagram of one backscattered electron detection circuit equipment is given· Specially designed multi-filter circuit and PCB layout technique realize the noise suppression of analog signal processing circuit to obtain the clear image of the special registration mark·

  • 【文献出处】 微细加工技术 ,Microfabrication Technology , 编辑部邮箱 ,2005年02期
  • 【分类号】TN305
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】86
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