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磁控溅射镀膜技术最新进展及发展趋势预测
【摘要】 磁控溅射技术已经成为沉积耐磨、耐蚀、装饰、光学及其他各种功能薄膜的重要手段。探讨了磁控溅射技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的进步,说明利用新型的磁控溅射技术能够实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备、提高反应溅射沉积薄膜的质量等,并进一步取代电镀等传统表面处理技术。最后呼吁石化行业应大力发展和应用磁控溅射技术。
【基金】 石油大学与江汉机械研究所合作规划成立表面工程中心的预研项目
- 【文献出处】 石油机械 ,China Petroleum Machinery , 编辑部邮箱 ,2005年06期
- 【分类号】TQ153
- 【被引频次】123
- 【下载频次】3705