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热化学气相沉积法制备定向碳纳米管薄膜

PREPARATION OF ALIGNED CARBON NANOTUBES FILMS BY THERMAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION

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【作者】 刘长虹程国安艾云龙

【Author】 LIU Chang-hong~(1,3),CHENG Guo-an~(2,3),AI Yun-long~1(1.Department of Materials Science and Engineering,Nanchang Institute of Aeronautical Technology,Nanchang 330034, China;2.Institute of Low Energy Nuclear Physics,Beijing Normal Beijing 100875,China;3.Department of Materials Science and Engineering, Nanchang University,Nanchang 330047,China)

【机构】 南昌航空工业学院材料科学与工程系北京师范大学低能核物理研究所南昌航空工业学院材料科学与工程系 江西南昌330034南昌大学材料科学与工程系江西南昌330047北京1008753南昌大学材料科学与工程系江西南昌330034

【摘要】 采用热化学气相沉积法(CVD),以乙炔为碳源,在单晶硅上制备了定向碳纳米管薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)观察了碳管薄膜及衬底表面形貌。结果表明,以多孔硅为衬底生长的碳纳米管管径均匀且离散分布,定向性良好。生长前氨对催化剂膜的预处理具有刻蚀作用,可显著提高碳管的生长密度,从而获得碳纳米管阵列膜。

【Abstract】 Carbon nanotubes films grown on single-crystal silicon by thermal chemical vapor deposition using acetylene gas as carbon source were prepared. The morphology of carbon nanotubes films and surface of substrates were examined by scanning electron microscope (SEM). The results show that carbon nanotubes grown on porous silicon substrate are well aligned with uniform diameter and dispersed distribution. Ammonia pretreatment to catalyst films is an etching process that increases the growth density of carbon nanotubes, and hence carbon nanotubes array films can be obtained.

【关键词】 碳纳米管薄膜热CVD定向氨预处理
【Key words】 CNTs filmsthermal CVDalignammonia pretreatment
【基金】 国家自然科学基金资助项目(10275005)
  • 【文献出处】 南昌大学学报(理科版) ,Journal of Nanchang University(Natural Science) , 编辑部邮箱 ,2005年01期
  • 【分类号】O613.71
  • 【被引频次】10
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