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磁头表面聚甲基丙烯酸氟代辛酯分子膜的制备及其摩擦学特性

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【摘要】 采用浸涂方法在磁头表面制备聚甲基丙烯酸氟代辛酯(PFAM)分子膜,对磁头表进行表面改性,并利用时间飞行二次离子质谱仪(TOF-SIMS)、接触角测量仪和原子力显微镜(AFM)对PFAM分子膜表征.测试结果表明,浓度是影响分子膜厚度、表面形貌和摩擦特性的主要因素.溶液浓度为500μg/g时制备的分子膜具有最好的摩擦磨损性能,磁头经过20000次起停循环后黏着力不超过2.4g.因此,磁头表面制备致密且缺陷少的PFAM分子膜有助于磁头磁盘之间的润滑,减少摩擦磨损,提高磁头的摩擦磨损性能.

  • 【文献出处】 科学通报 ,Chinese Science Bulletin , 编辑部邮箱 ,2005年21期
  • 【分类号】TQ581
  • 【被引频次】1
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