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脉冲激光沉积(PLD)技术及其应用研究

Review of Pulsed Laser Deposition Technology

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【Author】 GAO Guo-mian 1,2 ,CHEN Chang-le 1,WANG Yong-cang 1,2 ,CHEN Zhao 1,LI Tan 1(1. Science School, Northwestern Polytechnical University, Xi’an 710072, China; 2. The Science Institute, Air Force Engineering University, Xi’an 710051, China)

【机构】西北工业大学理学院；西北工业大学理学院陕西西安710072空军工程大学理学院；陕西西安710051；陕西西安710072；陕西西安710072空军工程大学理学院；陕西西安710072；

【摘要】综述了脉冲激光沉积(PLD)薄膜技术的原理、特点,着重分析了脉冲激光沉积技术的研究现状和在功能薄膜制备中的应用前景。大量研究表明,脉冲激光沉积技术是目前最好的制备薄膜方法之一。更多还原

【Abstract】 In this paper, the principle and the characteristics of pulsed laser deposition (PLD) technology is briefly introduced, the current research status of PLD and future application trend in the functional film are discussed in detail. The researches show that PLD is a new promising technique for growing thin films.更多还原

【关键词】 PLD；薄膜制备；应用；
【Key words】 PLD； film preparation； application；

【基金】国家自然科学基金资助项目(50331040,60171043);陕西省自然科学基金资助项目(2001C21);西北工业大学博士论文创新基金资助项目(200242)

【文献出处】空军工程大学学报(自然科学版) ,Journal of Air Force Engineering University(Natural Science Edition) , 编辑部邮箱 ,2005年03期

【分类号】TB43
【被引频次】103
【下载频次】1467

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