节点文献

纯氮气氛活性屏离子渗氮的研究

Study of Active Screen Plasma Nitriding in Pure Nitrogen

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 赵慧丽赵程孙定国

【Author】 ZHAO Hui-li,ZHAO Cheng,SUN Ding-guo (Plasma Surface Engineering Laboratory,Qingdao University of Science and Technology, Qingdao Shandong 266042,China)

【机构】 青岛科技大学等离子体表面技术研究所青岛科技大学等离子体表面技术研究所 山东青岛266042山东青岛266042山东青岛266042

【摘要】 在纯氮气氛中,利用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对 38CrMoAl钢进行了离子渗氮处理,并对渗层的组织结构、硬度、深度等进行了分析。结果表明,只有直流辉光放电电压高于 800V时,在纯氮气氛中才能进行活性屏离子渗氮处理。通过对等离子放电空间的粒子进行XRD分析发现,放电电压低于 800V时,沉积在基材表面的粒子主要是氧化铁(Fe3O4 );放电电压高于 800V时,沉积在基材表面的粒子才是能进行活性屏离子渗氮处理的铁的氮化物(ε、γ′)。

【Abstract】 CrMoAl steel was nitirded under the pure nitrogen by active screen plasma nitriding (ASPN).The microstructure,microhardness and the nitriding layer depth were analyzed.The results show that ASPN could be carried out in pure nitrogen only when the DC glow discharge voltage is higher than 800V.By analyzing XRD patterns of the particles in plasma space can find that the particles deposited in the surface of the substrate are mostly iron oxide when the voltage is lower than 800V,instead of iron nitride that could be used for ASPN when the voltage is beyond 800V.

  • 【文献出处】 金属热处理 ,Heat Treatment of Metals , 编辑部邮箱 ,2005年03期
  • 【分类号】TG156.8
  • 【被引频次】9
  • 【下载频次】228
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络