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Er2O3薄膜的电学性质研究

Electrical Properties of Er2O3 Thin Film

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【作者】 陈圣徐润朱燕艳方泽波薛菲樊永良蒋最敏

【Author】 CHEN Sheng,XU Run,ZHU Yan-yan,FANG Ze-bo,XUE Fei,FAN Yong-liang,JIANG Zui-min(Surface Physics Laboratory(National Key Laboratory),Fudan University,Shanghai 200433 PRC)

【机构】 复旦大学应用表面物理国家重点实验室复旦大学应用表面物理国家重点实验室 上海200433上海200433上海200433

【摘要】 Er2O3是一种很有希望的高κ材料。在氧气氛下热蒸发金属铒源,制备了Er2O3的薄膜,随后在氧气氛下对它进行了退火。通过对其C-V及I-V特性的测试,认为该材料的电学特性优秀,应该进行进一步的研究。

【Abstract】 Erbia(Er2O3) is a hopeful high-κ material.We have realized thin Er2O3 film’s growth on Si(100) by evaporating metallic Er source in oxygen ambience. Then we annealed it in oxygen ambience.From the results of C-V and I-V test,we can see the film’s electrical properties are good.So we think this kind of material should be studied further.

【关键词】 Er2O3κC-VI-V
【Key words】 Er2O3High-κC-VI-V
【基金】 国家重点基础研究专项基金(批准号:G2001CB3095,10321003和60425411)资助的课题
  • 【分类号】TB383;
  • 【被引频次】1
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