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AFM诱导氧化加工Si纳米氧化线的一致性和连续性的研究

Studies on Uniformity and Conformity of Silicon Oxidation Lines Obtained by AFM Induced Oxidation

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【作者】 宋晓辉匡登峰李艳宁刘庆纲胡小唐

【Author】 SONG Xiao-hui, KUANG Deng-feng, LI Yan-ning, et al (State key Lab of Precision Measuring Technology & Instrument, Tianjin University, Tianjin 300072)

【机构】 天津大学计量技术及仪器国家重点实验室天津大学计量技术及仪器国家重点实验室 天津 300072天津 300072天津 300072

【摘要】 研究了在不同的偏置电压和扫描速度下加工的Si氧化线的一致性和均匀性,得到了加工高质量的Si氧化线的实验条件为:偏置电压8V,扫描速度1 μm/s。

【Abstract】 The uniformity and conformity of the oxidation lines of Si obtained by AFM (atom force microscope) tip induced oxidation ofdifferent biased voltages and scanning speeds are studied. According to the results, the best experiment conditions of getting high-quality Si oxidation lines: bias voltage of 8V and scanning speed of 1 μm/s.

【基金】 教育部天津大学南开大学科技合作项目
  • 【文献出处】 航空精密制造技术 ,Aviation Precision Manufacturing Technology , 编辑部邮箱 ,2005年02期
  • 【分类号】TB383
  • 【下载频次】41
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