【作者】 赵树萍； 戴良钢； 吕双坤；
【机构】 辽宁省日用电器研究所； 沈阳工业安装集团股份有限公司； 沈阳环卫工程设计研究院 沈阳110032； 沈阳110026； 沈阳110001；
【摘要】 介绍了微弧氧化过程中动态电位的研究,以及采用动态电位对钛及其合金进行微弧氧化时形成覆层的各参数间的关系。更多还原
