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用直流中空阴极放电方法 (DC HCD)生长的纳米级碳的氮化物薄膜研究(英文)

Investiagtion of Nanoscale Carbon Nitride Thin Films Grown Using DC HCD Hollow Cathode Discharge

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【作者】 YAN Y.H.； SHI Y.C.； YANG P.； TANG X.L.； FENG P.X.；

【Author】 YAN Y.H.~*, SHI Y.C., YANG P., TANG X.L., FENG P.X. (Department of Physics, Donghua University, Shanghai 200051, P.R.China)

【机构】 Department of Physics； Donghua University； Shanghai 200051； P.R.China； P.R.China；

【关键词】 薄膜研究； DC HCD； nitride； synthesizing； hollow； cathode； multilayer； optoelectronic； underlying；
  • 【文献出处】 光散射学报 ,Chinese Journal of Light Scattering , 编辑部邮箱 ,2005年01期
  • 【分类号】O484
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