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硅基图案化TiO2表面微结构的制备和表征
Preparation and Characterization of Patterned TiO2 Microstructures on Silicon Surface
【摘要】 结合微接触印刷术和TiO2沉积成膜技术,在单晶硅表面成功地制备了具有微米级图案结构的TiO2薄膜,并利用XPS,SEM和AFM对其表面性质和结构进行了表征.该硅基图案化TiO2微结构在光电转化、微机电和光催化等领域中的应用具有重要意义.
【Abstract】 Micro-patterned TiO2 films on Si wafers was fabricated by selective deposition and microcontact printing technique. X-ray photoelectron spectroscopy（XPS）, scanning electron microscope（SEM） and atomic force microscopy（AFM） were used to examine the properties and microstructure of the patterned TiO2 films. This patterned TiO2 microstructures may be widely used in the field of photonics, optics, sensing and microelectromechanical system（MEMS）.
【关键词】 微图案；
微接触印刷术；
TiO2微结构；
【Key words】 Micro-patterns； Microcontact printing； TiO2 microstructures；
【Key words】 Micro-patterns； Microcontact printing； TiO2 microstructures；
【基金】 国家自然科学基金(批准号:20473106);国家“九七三”计划(批准号:2003CB716200)资助.
- 【文献出处】 高等学校化学学报 ,Chemical Research In Chinese Universities , 编辑部邮箱 ,2005年04期
- 【分类号】TN304
- 【被引频次】12
- 【下载频次】227