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缓冲层用于改善硅基氮化镓外延薄膜质量  
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【英文篇名】 The Study of Buffers Used in The Growth of GaN on Si Substrate by MOCVD
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【作者】 雷勇; 范广涵; 李述体; 谭春华; 黄琨; 郑树文;
【英文作者】 LEI Yong; FAN Guang-han; LI Shu-ti; TAN Chun-hua; HUANG Kun; ZHENG Shu-wen Institute of Photoelectronic Material and Technology; South China Normal University; Guangzhou 510631; China;
【作者单位】 华南师范大学光电子材料与技术研究所; 华南师范大学光电子材料与技术研究所 广东 广州; 广东 广州;
【文献出处】 光电子技术与信息 , Optoelectronic Technology & Information, 编辑部邮箱 2005年 05期  
期刊荣誉:ASPT来源刊  CJFD收录刊
【中文关键词】 缓冲层; GaN; Si; MOCVD;
【英文关键词】 buffer structure; GaN; Si; MOCVD;
【摘要】 介绍了GaN材料的基本特性及重要意义,讨论了在Si衬底上外延GaN的可取之处以及存在的主要问题。详细阐述了各种不同材料以及不同结构的缓冲层应用于MOCVD方法在Si衬底上外延GaN,及其所取得的最新成果。对缓冲层降低应力的机制进行了说明。
【英文摘要】 The characteristics and the great importance of GaN were introduced. The advantages and the main problems of GaN grown Si substrate have been explained. Also, various buffer materials and buffer structures used in the growth of GaN by MOCVD system were expounded. Finally the machnisms of the the buffer's decreasing the strain were discussed.
【基金】 国家科技攻关计划资助项目(00-068)
【更新日期】 2005-12-24
【分类号】 TN304;
【正文快照】 1己l雀. 一J二二翻 20世纪90年代以来,GaN基半导体化合物 材料由于其在理论研究和实际应用方面的重大意义 吸引了众多的目光,该类型半导体材料的典型特征 是具有宽的直接带隙,高的电子饱和漂移率,高的 击穿场强以及耐腐蚀、抗辐射、热稳定性好等,是发 展半导体光电子器件和高温

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