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改善GaAs MESFETs硫钝化稳定性研究的新探索

An New Research in Improving the Sulfur Passivation Stability of GaAs MESFETs

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【作者】 李亚丽杨瑞霞杨克武

【Author】 LI Ya-li~1, YANG Rui-xia~1,YANG Ke-wu~2 1.School of Information Technology, Hebei University of Technology, Tianjin 300130, China; 2.The 13th Electronic Research Institute, Shijiazhuang, 050051 China.

【机构】 河北工业大学信息工程学院电子部第13研究所 天津300130天津300130石家庄050051

【摘要】 硫钝化可以明显改善GaAs金属半导体场效应晶体管(MESFETs)的击穿特性,但钝化效果不稳定。我们利用硫钝化和PECVD SiNx 钝化相结合的方法,使钝化的稳定性得到了提高,但同时击穿电压会出现下降。击穿电压下降的主要原因是:As S键很不稳定,在较高温度下分解,使GaAs表面负电荷密度减小,击穿电压下降。

【Abstract】 The breakdown characteristic of GaAs metal-semiconductor field effect transistors (MESFETs) can be greatly improved by sulfur passivation technique. However, the passivation effect is unstable. A novel method combining sulfur passivation with PECVD SiN_x passivation is developed. The experiment results indicate that a stable passivation effect can be achieved by this passivation technique, but the breakdown voltage decreased simultaneously. Breaking down of As-S bond in high temperature reduced the density of negative charge, which is the main reason that the breakdown voltage decreased.

【基金】 军事预研基金资助项目(51432020103QT4501);河北省自然科学基金资助项目(F2004000078)。
  • 【文献出处】 电子器件 ,Journal of Electron Devices , 编辑部邮箱 ,2005年01期
  • 【分类号】TN306
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