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一种应用于深亚微米CMOS工艺的ESD保护电路

Design and Implementation of a Submicron ESD Protection Circuit

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【作者】 鲍剑王志功李智群

【Author】 Bao Jian , Wang Zhi-gong, Li Zhi-qun (Institute of RF & OEICs, Southeast University, Nanjing 210096, China)

【机构】 东南大学射频与光电集成电路研究所东南大学射频与光电集成电路研究所 南京 210096南京 210096南京 210096

【摘要】 本文研究了一种基于动态栅极悬浮技术的ESD保护电路,并根据全芯片ESD防护的要求设计了试验电路。采用TSMC 0.18μm CMOS工艺实现了试验电路,测试显示芯片的ESD失效电压达到了7kV。

【Abstract】 A dynamic gate floating ESD protection circuit is first analyzed and then designed according to the whole-chip ESD planning. Fabricated in TSMC 0.18 μm 1P6M+ CMOS Technology, the chip exhibits an ESD failure voltage up to 7kV.

【关键词】 ESDESD保护动态栅极悬浮
【Key words】 ESDBSD protectionDynamic gate floating
【基金】 本研究得到国家863计划射频与超高速芯片多项目圆片服务(2002AA1Z1711)支持
  • 【文献出处】 电子与封装 ,Electronics & Packaging , 编辑部邮箱 ,2005年08期
  • 【分类号】TN432
  • 【被引频次】7
  • 【下载频次】271
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