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热处理工艺对合金薄膜电阻及其稳定性的影响

Effects of heat treatment process on alloy thin film resistance and its stability

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【作者】 彭银桥甘元驹

【Author】 PENG Yin-qiao, GAN Yuan-ju (Sch of Info,Zhanjiang Ocean University,Zhanjiang 524088,China)

【机构】 湛江海洋大学信息学院湛江海洋大学信息学院 广东湛江524088广东湛江524088

【摘要】 利用离子束溅射镀膜技术,在17-4PH不锈钢弹性衬底上直接溅射SiO2绝缘膜和NiCr薄膜,制备了一种新型的压力传感器用合金薄膜。分析了热处理工艺对合金薄膜电阻稳定性的影响,对NiCr薄膜电阻进行了4种热处理工艺,获得了使合金薄膜电阻长期稳定的热处理工艺参数在SiOx和N2的保护下,673K退火1h,并在473K下保温24h。用该工艺能制备适应各种恶劣环境的高精度压力传感器。

【Abstract】 Alloy thin film for advanced pressure sensors is manufactured by means of ion-beam sputtering SiO2 insulation film and NiCr thin film on the 17-4PH stainless steel elastic substrate.The effects on stability of thin film alloy resistance are thoroughly analyzed.The NiCr thin film resistance is respectively heat-treated by four processes,and paramaters of heat treatment that make thin film resistance stable are obtained.The thin film resistance is heat-treated under protection of SiOx and N2 at 673K for 1h,then it is kept at 473K for 24h.Pressure sensors of high precision for harsh environments can be manufactured by this process.

【基金】 国家自然科学基金资助项目(69971007,69890227)
  • 【文献出处】 传感器技术 ,Journal of Transducer Technology , 编辑部邮箱 ,2005年07期
  • 【分类号】TG156
  • 【被引频次】10
  • 【下载频次】242
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