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工艺参数对Ti和NdFeB薄膜形态的影响
The Influences of Craft Parameter on Ti and NdFeB Films Configuration
【摘要】 采用磁控溅射法制备Ti、NdFeB薄膜,并研究分析了工艺参数对Ti薄膜及NdFeB磁性薄膜表面形态的影响。试验结果表明,在一定的工艺条件下,通过对基片的加热控制可以获得单一方向生长的柱状晶结构薄膜。随着溅射功率的提高,NdFeB薄膜的沉积均匀性降低。
【Abstract】 In this paper,magnetron sputtering is used to prepare Ti and NdFeB films,and the influences of craft parameters on configuration of surface of Ti and NdFeB films are researched and analyzed.Under the given conditions,we can get films of columnar crystals of growth of single direction by controlled heating of substrate.With the increasing of sputtering power,the deposition of NdFeB films uniformity decreases.
【关键词】 薄膜；
表面形态；
加热控制；
溅射功率；
【Key words】 Films； Configuration of surface； Controlled heating； Sputtering power；
【Key words】 Films； Configuration of surface； Controlled heating； Sputtering power；
【基金】 江苏省教育厅高校科学研究项目(03KJD430067)
- 【文献出处】 表面技术 ,Surface Technology , 编辑部邮箱 ,2005年05期
- 【分类号】TM27;
- 【被引频次】4
- 【下载频次】122