节点文献

具有p型埋层PSOI结构的耐压分析

A Breakdown Voltage Model of a PSOI Structure with a p-Type Buried Layer

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 段宝兴张波李肇基

【Author】 Duan Baoxing,Zhang Bo,and Li Zhaoji(IC Design Center,University of Electronic Science & Technology,Chengdu 610054,China)

【机构】 电子科技大学IC设计中心电子科技大学IC设计中心 成都610054成都610054成都610054

【摘要】 提出了一种具有p型埋层的PSOI器件耐压新结构,称为埋层PSOI(BPSOI)·其耐压机理是,通过p型埋层电荷产生的附加电场调制作用,导致表面电场分布中产生新的峰而使击穿电压提高;p型埋层的电中性作用增加了漂移区优化的浓度而使比导通电阻降低.借助二维MEDICI数值分析软件,获得此结构较一般PSOI的击穿电压提高52%~58%、比导通电阻降低45%~48%.

【Abstract】 A new PSOI structure with a p-type buried layer is developed,which is called BPSOI.Its mechanism of breakdown is an additive electric field modulation,which inducts new electric field peaks in surface electric field distribution by p-type buried layer charges.The on-resistance is decreased as a result of increasing drift region doping which is due to the neutralism of the p-type buried layer.The result is that the breakdown voltage is increased by 52%~58% and the on-resistance is decreased by 45%~48% in virtue of the 2D MEDICI simulation.

  • 【文献出处】 半导体学报 ,Chinese Journal of Semiconductors , 编辑部邮箱 ,2005年11期
  • 【分类号】TN432
  • 【被引频次】12
  • 【下载频次】133
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络