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基于TOC理论的OEE的应用

Application of OEE based on TOC

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【作者】 朱虹钱省三

【Author】 ZHU Hong, QIAN Xing-san (Research Institute of Industrial Engineering Microelectronics Development Research Center, University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093,China)

【机构】 上海理工大学工业工程研究所微电子发展研究中心上海理工大学工业工程研究所微电子发展研究中心 上海200093上海200093

【摘要】 在介绍OEE与TOC理论的基础上,将两者的优缺点互补,引入IEE概念进行瓶颈诊断,开展了TPM活动以提高系统整体效率,同时提出一宏观与微观相结合的企业数据收集与处理模型。结合目前国内半导体厂实时性差的特点,介绍了一晶圆制造过程实时系统工作流程。

【Abstract】 Based on theory of OEE and TOC, and combining their advantages, the conception of IEE(Intrinsic Equipment Efficiency)is used to locate the bottle-neck. TPM is carried out to increase the overall efficiency of the system. A two-layer model comprised macroscopic and micro- scopic for data collecting and analyzing is introduced. A workflow model of a real time system used in wafer fabrication is developed.

【关键词】 设备综合效率约束理论设备固有效率
【Key words】 OEETOCIEE
  • 【文献出处】 半导体技术 ,Semiconductor Technology , 编辑部邮箱 ,2005年08期
  • 【分类号】TN305
  • 【被引频次】38
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