节点文献

氧化钒薄膜微观结构的研究

Microstructural features of DC sputtered vanadium oxide thin films

推荐 CAJ下载
PDF下载
不支持迅雷等下载工具，请取消加速工具后下载。

【Author】 Pan Meng Xiao 1)2) Cao Xing Zhong 1)3) Li Yang Xian 2) Wang Bao Yi 1) Xue De Sheng 3) Ma Chuang Xin 1) Zhou Chun Lan 1) Wei Long 1) 1) (Key Laboratory of Nuclear Analysis Techniques, Institute of High Energy Physics, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100039, China) 2) (Institute of Materials Science and Engineering, Hebei University of Technology, Tianjin 300130,China) 3) (Key Laboratory for Magnetism and Magnetic Material of Ministry,Education, Lanzhou University, Lanzhou 730000,China)

【机构】中国科学院高能物理研究所核分析技术重点实验室；河北工业大学材料科学与工程学院；兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室；中国科学院高能物理研究所核分析技术重点实验室北京100039河北工业大学材料科学与工程学院；天津300130；北京100039兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室；兰州730000；北京100039；北京100039；

【摘要】采用直流磁控反应溅射在Si(1 0 0 )衬底上溅射得到 (0 0 1 )取向的V2 O5薄膜 .x射线衍射 (XRD)、扫描电镜 (SEM)和傅里叶变换红外光谱 (FTIR)的结果表明 ,氧分压影响薄膜的成分和生长取向 ,在氧分压 0 4Pa时溅射得到 (0 0 1 )取向的纳米V2 O5薄膜 ,即沿c轴垂直衬底方向取向生长的薄膜 .V2 O5薄膜经过真空退火得到 (0 0 1 )取向的VO2 薄膜 ,晶体颗粒长大 .对薄膜的分子结构和退火过程的晶格转换进行了分析 ,证实了氧分压对薄膜晶体结构的影响更多还原

【Abstract】 V 2O 5 thin films with a preferred orientation were deposited on Si(100) substrate by reactive dc magnetron sputtering. The surface morphology and structural features were studied by XRD, SEM and FTIR to ensure the growth of V 2O 5 films. These investigations revealed that the chemical composition and the orientation of the films were affected by the oxygen partial pressure. Nano grain V 2O 5 films can be grown with a layered structure at oxygen partial pressure of 0 4Pa. V 2O 5 film could be converted to (001) oriented VO 2 film after vacuum annealing process.更多还原

【关键词】微观结构；氧化钒薄膜；择优取向；直流磁控溅射；
【Key words】 microstructure； thin films of vanadium oxides； preferred orientation； DC magnetron sputtering；

【基金】国家自然科学基金 (批准号 :1992 70 0 1)资助的课题~~

【文献出处】物理学报 ,Acta Physica Sinica , 编辑部邮箱 ,2004年06期

【分类号】O484
【被引频次】56
【下载频次】383

知网节下载

节点文献中：

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络

节点文献