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一种基于图像处理的半导体刻线边缘粗糙度的确定方法
【摘要】 随着半导体技术的不断发展 ,半导体刻线临界尺寸不断降低 ,线边缘粗糙度对元件性能的影响越来越大。本文综合运用图像处理中的直方图图像描述、阈值化描述以及Sobel算子提取半导体刻线的边缘 ,并根据边缘计算了粗糙度。最后给出了一个样本的实际测量结果并加以分析 ,结果表明这一方法可以用来测量和分析临界尺寸刻线边缘粗糙度
- 【文献出处】 计量技术 ,Measurement Technique , 编辑部邮箱 ,2004年09期
- 【分类号】TN305
- 【被引频次】3
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