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激光刻蚀技术的应用

Application of laser etching technology

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【作者】 王宏杰郭文刚董兆辉吕福云杜永超李超刘建生

【Author】 WANG Hong-jie~1,GUO Wen-gang~1,DONG Zhao-hui~1,L Fu-yun~1,DU Yong-chao~2,LI Chao~2,LIU Jian-sheng~2(1.Institute of Physics, Nankai University, Tianjin 300071,China;2.The 18th Research Institute, China Electronic Technology Corporation, Tianjin 300168, China)

【机构】 南开大学物理科学学院中国电子科技集团公司第十八研究所中国电子科技集团公司第十八研究所 天津 300071天津 300071天津 300168天津 300168

【摘要】 对激光刻蚀过程中的气化现象进行了热力学分析,根据不同的材质合理地选取工作条件,进行了激光狭缝刻制、太阳电池硅片打孔及激光标识的试验,并对刻蚀结果进行了对比分析,得出与理论分析相符的结果。

【Abstract】 The gasifying phenomenon in laser etching is analyzed with the theory of heat conduction. According to different materials, appropriate working condition is selected, experiments of engraving, broaching and marking by using high-power laser are operated, and the etching results are compared. The results show that the method is consistent with the theory analysis and can be applied in many fields.

【关键词】 激光刻蚀激光标识光学狭缝硅片
【Key words】 Laser etchingLaser markingOptical slotsSilicon wafer
  • 【文献出处】 红外与激光工程 ,Infrared and Laser Engineering , 编辑部邮箱 ,2004年05期
  • 【分类号】TN249
  • 【被引频次】38
  • 【下载频次】1442
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