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低阻硅衬底上形成的低损耗共平面波导传输线

LOW-LOSS CPW LINE ON LOW-RESISTIVITY SILICON

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【作者】 葛羽屏郭方敏王伟明徐欣游淑珍邵丽于绍欣朱自强陆卫

【Author】 GE Yu-Ping1, GUO Fang-Min 1,2, WANG Wei-Ming1, XU Xin YOU Shu-Zhen1, SHAO Li1, YU Shao-Xin1, ZHU Zi-Qiang1, LU Wei2 (1.Department of Electrical Engineering, East China Normal University, Shanghai 200062, China; 2.National Lab. for Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Science, Shanghai 200083, China)

【机构】 华东师范大学信息科学与技术学院中国科学院上海技术物理所红外物理国家重点实验室 上海200062上海200062中国科学院上海技术物理所红外物理国家重点实验室上海200083上海200062上海200083

【摘要】 在厚膜多孔硅 (PS) /氧化多孔硅 (OPS)衬底上 ,结合聚酰亚胺涂层改善表面 ,研制低损耗、高性能射频 (RF) /微波 (MW)共平面波导CPW(CoplanarWaveguide) .通过在N和P型硅上形成不同厚度PS膜 ,并对其上的CPW进行分析比较 ,厚膜PS与石英的共面波导插入损耗非常接近 ,远小于在 2 0 0 0Ω·cm高阻硅上形成的多晶硅 -氧化硅组合衬底 :在 0 33GHz范围 ,插入损耗小于 5dB/ 1.2cm ;33 4 0GHz范围 ,小于 7.5dB/ 1.2cm .

【Abstract】 Low loss and high performance RF/microwave CPW(coplanar waveguide)were fabricated on thicker porous silicon(PS)/ oxidized porous silicon(OPS) substrate associated with polyimide coating to improve smoothness. PS films with different thickness were formed on both N and P-type Si, and the CPW losses on them were discussed. The CPW loss on thick PS is intimately close to quartz, and much lower than the combined substrate of poly-Si / oxidized poly-Si growing on a 2000Ω·cm Si wafer. The insertion loss on PS was lower than 5dB/1.2cm in the range of 0-33GHz, and less than 7.5dB/1.2cm in 33-40GHz.

【基金】 国家 973集成微光机电系统研究 (G19990 3 3 10 5 ) ;国家自然科学基金 ( 69975 40 9,10 3 740 95 );上海应用材料研究与发展基金项目 ( 0 3 0 6)
  • 【文献出处】 红外与毫米波学报 ,Journal Infrared Millimeter and Waves , 编辑部邮箱 ,2004年05期
  • 【分类号】TN811
  • 【被引频次】4
  • 【下载频次】199
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