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单晶硅各向异性湿法腐蚀机理的研究进展

Research Development on Wet Anisotropic Etching Mechanism of Crystal Silicon

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【作者】 王涓孙岳明黄庆安周再发

【Author】 Wang Juan 1 Sun Yueming 1 Huang Qingan 2 Zhou Zaifa 2 (1 Depatment of Chemistry and Chemical Engineering, Southeast University,nanjing 210096,China; 2 Microelectronic Center,Southeast University,nanjing 210096,China)

【机构】 东南大学化学化工系东南大学MEMS重点实验室东南大学MEMS重点实验室 江苏南京210096江苏南京210096江苏南京210096

【摘要】 介绍了硅各向异性腐蚀的含义、特点、用途以及常用的腐蚀剂等基本要素 ;着重论述了试图解释硅各向异性腐蚀行为的几种典型机理 ,并在此基础上对各腐蚀机理做了简要分析

【Abstract】 The meanings,characteristics,purposes of the anisotropic etching of silcon and frequently used etchants etc.are introduced. And especially the explanations of anisotropic etching mechanisms of crystal silicon are emphasized on. Then a survey of the analysis on the etching mechanisms refered is made.

【关键词】 各向异性湿法腐蚀
【Key words】 silicon anisotropy wet etching
  • 【文献出处】 化工时刊 ,Chemical Industry Times , 编辑部邮箱 ,2004年06期
  • 【分类号】TG174
  • 【被引频次】76
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