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反应条件对氮(碳/氧)化硅薄膜性能的影响

The Effect of Reaction Circumstances on Properties of (Carbon) Silicon (Oxy)Nitride

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【作者】 王君； 李芬； 吉小利； 储昭荣； 徐国财；

【Author】 WANG Jun,LI Fen,JI Xiao-li,ZHU Zhao-rong,XU Guo-cai (Department of Chemical Engineering, Anhui University of Science and Technology,Huainan 232001,China)

【机构】 安徽理工大学化工系； 安徽理工大学化工系 安徽淮南232001； 安徽淮南232001； 安徽淮南232001；

【摘要】 就氮(碳/氧)化硅薄膜的反应条件-组成和结构-性能之间关系的国内外研究进行了综述。

【Abstract】 The study on relationship between reaction circumstances -composition-properties of (carbon) silicon (oxy)nitride home and abroad was reviewed in this article.

【关键词】 氮(碳/氧)化硅； 反应条件； 薄膜；
【Key words】 (carbon) silicon (oxy)nitride； reaction circumstances； films；
【基金】 淮南科技基金(200201)
  • 【分类号】O613.7
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