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液体喷射抛光材料去除机理的研究

Research on material removal mechanism of fluid jet polishing

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【作者】 方慧郭培基余景池

【Author】 FANG Hui, GUO Pei-ji, YU Jing-chi (Modern optical technology Institute, Soochow University, Suzhou215006, China)

【机构】 苏州大学现代光学技术研究所苏州大学现代光学技术研究所 江苏苏州 215006江苏苏州 215006江苏苏州 215006

【摘要】 从实验出发,研究了液体喷射抛光中抛光区的特征及材料的去除机理。得到了垂直喷射时在材料的去除区域呈W型的环状分布现象,并运用射流与冲击理论对这一现象做了详细地分析。实验结果表明,磨料粒子碰撞时的剪切作用对材料的去除来说占主导地位,而直接冲击作用占次要地位。

【Abstract】 Characteristics of the polishing area are investigated by fluid jet polishing (FJP) and removal mechanism of material in the experiment. The phenomenon that the removal area presents the orbicular structure of W-shape is obtained. Then the reasonable explanation is given with the jet and impact theories. The experimental results show that the shear plays a dominant role in the removal of material, and the impact plays a subordinate role.

【关键词】 喷射抛光去除机理剪切
【Key words】 fluid jetpolishingremoval mechanismshear
【基金】 国家自然科学基金资助项目(60278011)
  • 【分类号】O439
  • 【被引频次】112
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