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Si/Ti/Au/Si键合技术研究及其应用

Si/Ti/Au/Si Bonding Technology and Its Application

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【作者】 杨道虹徐晨李兰吴苗沈光地

【Author】 YANG Dao-hong~(**), XU Chen, LI Lan, WU Jun-miao, SHEN Guang-di (College of Electronic Information & Control Engineering,Beijing University of Technology,Beijing Optoelectronic Technology Laboratory,Beijing 100022,China)

【机构】 北京工业大学电子信息与控制工程学院北京市光电子技术实验室北京工业大学电子信息与控制工程学院北京市光电子技术实验室 北京100022北京100022北京100022

【摘要】 运用Si/Ti/Au/Au/Ti/Si在N2保护下及420℃左右,成功地实现了Au/Si共熔键合,成品率达到90%以上。该键合方法能进行选择区域键合,完全避免了由于Si/Si熔融键合过程中高温退火给微电子机械系统(MEMS)器件带来的畸变甚至失效,为新型室温红外探测器的研制奠定了良好的工艺基础,是此类结构MEMS器件的理想键合封装方法。

【Abstract】 A novel Si/Ti/Au/Au/Ti/Si bonding method based on Au/Si eutectic bonding in nitrogen atmosphere was presented.The bonding temperature is 420 ℃ or so and the successful probability is 90% above.This method could process selective area bonding and wholly overcome the defects in micro-electronic machine system(MEMS) devices during bonding using fusion bonding method before.Using this novel bonding method,a novel uncooled infrared detector was fabricated.It′s a perfect bonding method applying for MEMS such as the novel uncooled infrared detector.

【基金】 北京市教委基金资助项目(KM200310005009)
  • 【文献出处】 光电子·激光 ,Journal of Optoelectronics.laser , 编辑部邮箱 ,2004年07期
  • 【分类号】TG156
  • 【被引频次】14
  • 【下载频次】332
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