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光刻技术在微电子设备的应用及发展

The Application and Development of Lithography Technology for Microelectronics Equipment in New Century

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【作者】 刘加峰； 胡存刚； 宗仁鹤；

【Author】 LIU Jia-feng, HU Gun-gang, ZONG Ren-he(Hefei University Technology Electric and Automatic Project Institute, Hefei 230009, China)

【机构】 合肥工业大学电气与自动化工程学院； 合肥工业大学电气与自动化工程学院 安徽合肥 230031； 安徽合肥 230031； 安徽合肥 230031；

【摘要】 介绍了光刻技术在微电子领域的应用,具体分析多种短波长光刻技术的最新进展,并对在0.1μm之后用于替代光学光刻的下一代光刻技术的发展趋势作了展望。

【Abstract】 The lLithography technology’s application in microelectronic domain was presented, the newest progress of many kinds of shortwave length lithography technology was analysed concretely. The tendency of the next generation lithography technology development was forecasted.

【关键词】 微电子； 光刻； 下一代光刻技术；
【Key words】 microelectronics； lithography； NGL(next generation lithography)；
  • 【文献出处】 光电子技术与信息 ,Optoelectronic Technology & Information , 编辑部邮箱 ,2004年01期
  • 【分类号】TN305
  • 【被引频次】30
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