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原子光刻用超高真空蒸发设备的设计和建立

Design and construction of an ultrahigh vacuum evaporation equipment for atom photolithography

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【作者】 陈献忠； 姚汉民； 陈旭南； 李展； 陈元培； 高洪涛； 石建平；

【Author】 CHEN Xian-zhong , YAO Han-min , CHEN Xu-nan , LI Zhan , CHEN Yuan-pei , GAO Hong-tao , SHI Jian-ping ( State Key Laboratory of Optical Technologies for Microfabrication, Institute of Optics and Electronics, Chinese Academy of Sciences ,Chengdu 610209, China )

【机构】 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室； 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 四川成都610209； 四川成都610209； 四川成都610209；

【摘要】