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直流磁控溅射镀膜实验条件的选择

CHOICES ON EXPERIMENTED CONDITIONS OF DC MAGNATRON SPUTTERING FILMS

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【作者】 吴桂芳； 赵青生；

【Author】 Wu Guifang Zhao Qingsheng (Anhui University,Hefei,230039)

【机构】 安徽大学； 安徽大学 合肥； 230039； 合肥； 230039；

【摘要】 介绍一台改制的直流以磁控溅射镀膜机用于溅射镀膜实验 ,选择实验条件 ,观察实验现象 ,得到多层薄膜

【Abstract】 A modified DC magnetron sputtering coating machine which was employed in sputtering films experiments was introduced.Multi-layer films were prepared through observing experimental phenomena and selecting experimental conditions.

【关键词】 溅射镀膜； 辉光放电； 多层薄膜；
【Key words】 sputtering films； glow discharge； multi-layer films.；
  • 【文献出处】 大学物理实验 ,Physical Experiment of College , 编辑部邮箱 ,2004年02期
  • 【分类号】O4-33
  • 【被引频次】19
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