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兆声清洗技术分析及应用

Megasonic Cleaning technology analysis and application

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【作者】 李仁

【Author】 LI Ren(The 45inst of Research Institute of China, The engineering master of huazhong University of technology)

【机构】 中国电子科技集团公司第四十五研究所 北京东燕郊 101601

【摘要】 主要论述兆声清洗技术原理及其在微电子清洗工艺过程中的应用。采用兆声清洗法可以减少化学品和高纯水的用量,在不破坏晶圆表面特征的前提下,提高对亚微细颗粒及各种污染物的去除能力及生产效率。

【Abstract】 The text main discuss the principle of mega-sonic cleaning technology and the use in the technology process of microelectronics. The using of the mega-sonic cleaning can reduce the usage of chemical and ultra-pure water, refrain the surface feature of wafer from injury, and enhance the ability to remove tiny particles and production efficiency.

  • 【文献出处】 电子工业专用设备 ,Equipment For Electronic Products Manufacturing , 编辑部邮箱 ,2004年01期
  • 【分类号】TN305
  • 【被引频次】8
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