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成膜时间对十八-硫醇(ODT)在铜表面自组装成膜的影响

The Effect of the Immersing Time of the Copper Electrode in ODT Solution on a SAM of ODT Formed on a Copper Surface

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【作者】 崔维真

【Author】 CUI Wei-zhen (Department of Chemistry,Cangzhou Teachers?College, Cangzhou 061001,Hebei)

【机构】 沧州师专化学系 河北沧州061001

【摘要】 讨论了随着铜电极在ODT溶液中浸泡时间的增长,成膜铜电极的腐蚀电阻、双电层电容的变化规律。结果表明ODT在铜表面30min内即可自组装形成致密、均匀、稳定的单分子膜。

【Abstract】 The variation of the corrosion resistance(R) and capacitance(C) with the immersing time of the copper electrode in the 1 mM ODT solution was investigated, It was found that the formation of the high-order、compact and stable ODT-monolayer was completed within 30 min.

  • 【文献出处】 沧州师范专科学校学报 ,Journal of Cangzhou Teacher’s College , 编辑部邮箱 ,2004年01期
  • 【分类号】TG174
  • 【被引频次】5
  • 【下载频次】221
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