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平面光电器件的纳米级高速研磨

High Speed Nanometer Lapping Photoelectric Elements

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【作者】 王黎明田春林周化文

【Author】 WANG liming TIAN Chunlin ZHOU Huawen(Changchun University of Science and Technology,Changchun 130022)

【机构】 长春理工大学科技开发中心长春理工大学科技开发中心 长春130022长春130022长春130022

【摘要】 论文探讨了采用固着磨料高速研磨进行纳米级加工的有关问题。采用固着磨料高速研磨加工技术加工光电器件 ,使工件已加工表面粗糙度达Ra2 .88nm ,平面度达 19nm ,不仅实现了纳米级加工 ,而且还实现了高效率、低成本加工。

【Abstract】 In the paper, some problems about high speed nanometer l apping with solid abrasives was discussed.A high speed solid abrasives lapping t echnology was used for machining photoelectric elements. The result shown that t he surface roughness of workpiece reached to Ra288nm and flatness reached 19nm . The technology not only realized nanometer machining but also realized machini ng at high efficiency and low cost.

  • 【文献出处】 长春理工大学学报 ,Journal of Changchun Institute of Optics and Fine Mechanics , 编辑部邮箱 ,2004年03期
  • 【分类号】TG580.6
  • 【被引频次】5
  • 【下载频次】72
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