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量子效应对MOSFETs阈值电压和栅电容的影响

The influence on threshold voltage and gate capacitance of MOSFETs due to quantum effects

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【作者】 代月花陈军宁柯导明孙家讹

【Author】 DAI Yue-hua,CHEN Jun-ning,KE Dao-ming,SUN Jia-e(Institute of Electronic Science and Technology, Hefei230039, China)

【机构】 安徽大学电子科学与技术学院安徽大学电子科学与技术学院 安徽合肥 230039安徽合肥 230039安徽合肥 230039

【摘要】 根据改进后的三角势阱场近似,并考虑量子化效应,提出了一种基于物理的阈值电压和栅电容的解析模型,给出了MOSFETs的阈值电压和栅电容的解析表达式,并与经典理论结果进行了比较。

【Abstract】 Based on the improved approximation of modified triangular potential well, a physical-based model of MOSFETs threshold voltage and gate capacitance is presented, as well as its analytical formulation. The new model accounts for quantum effects for future generation MOS devices and integration circuits. The calculated results of the new model agree with the simulation results very well.

【基金】 国家自然科学基金资助项目(60276042);安徽省自然科学基金资助项目(01044104)
  • 【文献出处】 安徽大学学报(自然科学版) ,Journal of Anhui University(Natural Sciences) , 编辑部邮箱 ,2004年06期
  • 【分类号】TN432
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