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基于化学增幅光成像原理的阴图PS版

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【作者】 余尚先； 张改莲； 杨凌露； 杨金瑞； 顾江楠；

【机构】 北京师范大学应用化学研究所； 北京师范大学应用化学研究所；

【摘要】 <正>本文所述之阴图PS版其内容涵盖了普通阴图PS版和阴图热敏CTP版。众所周知,柯达保丽光公司在20世纪90年代初期推出的阴图热交联型热敏CTP版材是基于化学增幅抗蚀剂基本原理而设计开发成功的。目前,柯达保丽光公司的阴图热交联型热敏CTP版材已经在世界上得到广泛的推广应用。这类成像组成物的基本组成是:

【关键词】 版材； 交联型； 组成物； 抗蚀剂； 阳图； PS版； 多卤化物； 酚树脂； 成膜树脂； 铝版基；
  • 【分类号】TS804
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