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离子束外延生长(Ga,Mn,As)的退火研究

Annealing effect on (Ga,Mn,As) by Ion Beam Epitaxy

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【作者】 宋书林陈诺夫周剑平柴春林杨少延刘志凯

【Author】 Song Shulin,Chen Nuofu ,Zhou Jianping,Chai Chunlin,Yang Shaoyan and Liu Zhikai(Key Laboratory of Semiconductor Materials Science, Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100083, China)

【机构】 中国科学院半导体所半导体材料科学重点实验室中国科学院半导体所半导体材料科学重点实验室 北京 100083北京 100083研究员北京 100083北京 100083北京 100083

【摘要】 利用俄歇电子能谱(AES)和X射线衍射(XRD)分析了室温条件下离子束外延生长Ga、Mn、As样品,在不同的温度条件下进行退火后组分和元素分布的变化。结果表明退火有助于样品内部元素的均匀分布,温度为400℃会导致MnO2和Ga5.2Mn的结晶。

【Abstract】 (Ga,Mn,As) samples grown at room temperature by ion beam epitaxy were studied after annealing at different temperatures with the help of Auger electron spectroscopy spectra and X-ray diffraction spectroscopy.The results show that annealing can promote the elements’redistribution and result in new phases’ recrystallization like MnO2 and Ga5.2 Mn at 400℃ .

【基金】 国家自然科学基金(60176001)项目;国家重大基础研究计划(G20000683)资助课题
  • 【文献出处】 真空科学与技术 ,Vacuum Science and Technology , 编辑部邮箱 ,2003年05期
  • 【分类号】TN304
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】44
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