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离子束外延生长(Ga,Mn,As)的退火研究
Annealing effect on (Ga,Mn,As) by Ion Beam Epitaxy
【摘要】 利用俄歇电子能谱(AES)和X射线衍射(XRD)分析了室温条件下离子束外延生长Ga、Mn、As样品,在不同的温度条件下进行退火后组分和元素分布的变化。结果表明退火有助于样品内部元素的均匀分布,温度为400℃会导致MnO2和Ga5.2Mn的结晶。
【Abstract】 (Ga,Mn,As) samples grown at room temperature by ion beam epitaxy were studied after annealing at different temperatures with the help of Auger electron spectroscopy spectra and X-ray diffraction spectroscopy.The results show that annealing can promote the elements’redistribution and result in new phases’ recrystallization like MnO2 and Ga5.2 Mn at 400℃ .
【基金】 国家自然科学基金(60176001)项目;国家重大基础研究计划(G20000683)资助课题
- 【文献出处】 真空科学与技术 ,Vacuum Science and Technology , 编辑部邮箱 ,2003年05期
- 【分类号】TN304
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