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基于硅胶表面修饰的分子印迹技术研究进展
Progress in Researches on Molecular Imprinting Polymers Based on Silica-gel Surface Modification
【摘要】 简述了分子印迹聚合物传统合成方法存在的问题以及表面修饰的分子印迹合成方法新进展 ,重点介绍了基于硅胶表面修饰的 4种分子印迹聚合物合成方法 :牺牲硅胶骨架法、水解缩聚法、化学气相沉积法和接枝共聚法 ,及其在处理放射性污水、毛细管电色谱、高效液相色谱和催化等方面的应用。
【Abstract】 Problems occurred in the conventional methods of synthesis of molecular imprinting polymers(MIPs) are discussed. Recent progress on MIPs synthesis based on surface modification is introduced with emphasis on four methods: method with sacrificial silica-gel plate, method of hydrolytical polycondensation, method based on chemical vapor deposition and method of copolymerization. The application of MIPs in treatment of radioactive waste, capilary electrochromatography, HPLC and catalysis are also noted.
【关键词】 硅胶;
表面修饰;
分子印迹技术;
综述;
【Key words】 silica; surface modification; molecular imprinting technology; review;
【Key words】 silica; surface modification; molecular imprinting technology; review;
【基金】 教育部高校骨干教师基金 (2 0 0 0K5 2 14 1)资助项目
- 【文献出处】 应用化学 ,Chinese Journal of Applied Chemistry , 编辑部邮箱 ,2003年10期
- 【分类号】O648
- 【被引频次】50
- 【下载频次】1191