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氟化物溶液腐蚀后硅表面形态的STM与XPS研究

The STM and XPS Characterization of Etched Si (111) Surfaces

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【Author】 LI Jing1,2,3,WU Suntao1,YE Jianhui2, LI Samfangyau3(1.PenTung Sah MEMS Research Center, Xiamen University, Xiamen 361005, China;2.Institute of Materials Research and Engineering, National University of Singapore,3.Department of Chemistry, National University of Singapore,Singapore 119206,Republic of Singapore)

【机构】厦门大学萨本栋微机电研究中心；新加坡国立大学材料与工程研究所；新加坡国立大学化学系福建厦门361005；新加坡国立大学材料与工程研究所；新加坡国立大学化学系；新加坡119206；福建厦门361005；新加坡119206；

【摘要】利用扫描隧道显微技术(STM)和X 射线光电子能谱(XPS)技术,研究了Si(111)在几种不同比例的NH4F HCl溶液中被腐蚀后的表面形态及洁净度.通过分析表面的STM图像与XPS谱图,表明在较高pH值的NH4F HCl溶液中被腐蚀的Si(111)表面粗糙度较小,且表面洁净度及化学稳定性较好.更多还原

【Abstract】 The morphologies and cleanness of Si (111) surface etched in several NH4FHCl solutions have been studied by Scanning Tunneling Microscopy (STM) and XRay Photoelectric Spectroscopy (XPS) . Analysis of the surface STM images and XPS spectra indicated that higher pH NH4FHCl solutions led to smoother, cleaner and more chemically stable surfaces. 更多还原

【关键词】 Si(111)表面；腐蚀； STM； XPS；
【Key words】 Si (111)surface； etching； STM； XPS；

【基金】国家自然科学基金重大研究计划(90206039);国家重点基础研究发展规划(001CB610505)资助

【文献出处】厦门大学学报(自然科学版) ,Journal of Xiamen University(Natural Science) , 编辑部邮箱 ,2003年05期

【分类号】TN304
【被引频次】4
【下载频次】153

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