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低温多晶硅TFT技术的发展

The Developmentof Low TemperaturePoly-SiTFT Technology

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【作者】 尹盛刘陈钟志有王长安徐重阳

【Author】 YIN Sheng,LIU Chen,ZHONG Zhi-you,WANG Chang-an,XU Chong-yang(Department of Electrical Science&Technology,Huazhong University of Science&Technology,Wuhan430074,China)

【机构】 华中科技大学电子科学与技术系华中科技大学电子科学与技术系 湖北武汉430074湖北武汉430074湖北武汉430074

【摘要】 本文综述低温多晶硅(LTPS)TFT技术的最新进展情况。该技术目前的研究前沿是:(1)制作高性能的TFT;(2)在柔性衬底上制作LTPSTFT;(3)驱动有机发光器件的TFT;(4)LTPSTFT的新应用。同时还展望了LTPSTFT技术的未来发展趋势。

【Abstract】 This paper describes the progress and current status of low tempera ture poly-Si(LTPS)TFT technology.The focus of current research is on:(1)High-performance TFTs;(2)Poly-Si TFTs directly fabricated on plastic films;(3)The integration of active matrix poly-Si TFT technology with OLED displays;(4)New applications of LTPS TFTs.The future trends of LTPS TFT technology are also presented.

  • 【分类号】TN321.5
  • 【被引频次】19
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