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基于L298N芯片对离子渗氮中压强的控制

Control of Presure in Plasma Nitriding Based on L298N Chip

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【Author】 KONG Zhonghua,SUN Fenglou,SUN Nanhai (College of Electronics and Information Engineering,South Central University for Nationalities,Wuhan,430074,China)

【机构】中南民族大学电子信息工程学院；中南民族大学电子信息工程学院湖北武汉430074；湖北武汉430074；湖北武汉430074；

【摘要】离子渗氮工艺对炉体内压强的控制要求比较高 ,本文设计了一种基于 L2 98N芯片驱动直流电动机控制的气体流量控制器 ,可用于控制反应炉的抽气气体流量 ,提高了炉体压强控制精度 ,降低了生产成本更多还原

【Abstract】 There is a high demand of pressure control in plasma nitriding technics, so a kind of gas flux controller has been designed which based on chip L298N driving DC electromotor It can be used in controlling outlet gas flux of plasma stove Also it improves the pressure controlling precision, lessens the cost更多还原

【关键词】驱动电路； L298N；离子渗氮,延迟电路；
【Key words】 driving circuit； L289N； plasma nitriding； delaying circuit；

【文献出处】现代电子技术 ,Modern Electronic Technique , 编辑部邮箱 ,2003年16期

【分类号】TM921.5
【被引频次】2
【下载频次】254

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