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SiC-MESFET器件的夹断电压

Investigation of the pinch off voltage of SiC-MESFET

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【作者】 王守国张义门张玉明张志勇阎军锋

【Author】 WANG Shouguo1,2,ZHANG Yimen1,ZHANG Yuming1,ZHANG Zhiyong2,YAN Junfeng2(1.Microelectronics Institute,Xidian University,Xi′an 710071,China;2.Department of Electronics, Northwest University,Xi′an 710069,China)

【机构】 西安电子科技大学微电子研究所西北大学电子科学系西北大学电子科学系 陕西西安 710071陕西西安 710069陕西西安 710071陕西西安 710069

【摘要】 考虑空间电荷区杂质的非完全离化、SiC表面的界面态和反向漏电流等因素的影响,给出了较为精确的计算SiC-MESFET器件夹断电压的方法,计算的结果和实验值符合较好。

【Abstract】 A more precise model of the pinch off voltage of SiCMESFET is given.With the effect of incomplete ionization of dopants,the interface states and the reverse current of schottky barrier diodes are considered.The theoretical calculation of this model is in good agreement with the experimental result.

【关键词】 碳化硅夹断电压界面态
【Key words】 SiCpinch off voltageinterface states
【基金】 国防预研基金资助项目(No.8.1.7.3)
  • 【文献出处】 西北大学学报(自然科学版) , 编辑部邮箱 ,2003年01期
  • 【分类号】TN386.3
  • 【被引频次】4
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