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脉冲碳等离子体源发射特性研究

Study on emission characteristics of pulsed carbon plasma arc-discharger

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【作者】 杭凌侠蔡长龙弥谦严一心李刚朱昌

【Author】 HANG Ling-xia, CAI Chang-long,MI Qian, YAN Yi-xin, LI Gang, ZHU Chang(School of Optoelectronical Engr, Xi’an Inst of Tech,Xi’an 710032, China)

【机构】 西安工业学院光电工程学院西安工业学院光电工程学院 陕西西安710032陕西西安710032陕西西安710032

【摘要】 研究讨论了在脉冲工作方式下,碳等离子体源的发射特性.根据离子束流分布和膜层厚度测试结果,分析了影响脉冲碳等离子体源发射特性的因素.给出了改善脉冲碳等离子体源发射特性的途径.

【Abstract】 The emission characteristic of carbon plasma arc-discharger under the pulse mode was studied. According to the results of distribution of ion current and film thickness, the factors influencing the emission characteristics of carbon plasma arc-discharger were analyzed, and the approaches to improve the emission characteristics were presented.

  • 【文献出处】 西安工业学院学报 ,Journal of Xi’an Institute of Technology , 编辑部邮箱 ,2003年04期
  • 【分类号】O531
  • 【被引频次】2
  • 【下载频次】85
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