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变In组分沟道的MM-HEMT材料电子输运特性研究

Electron transport properties of MM-HEMT with varied channel indium contents

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【作者】 仇志军蒋春萍桂永胜疏小舟郭少令褚君浩崔利杰曾一平朱战平王保强

【Author】 Qiu Zhi-Jun 1) Jiang Chun-Ping 1) Gui Yong-Sheng 1) Shu Xiao-Zhou 1) Guo Shao-Ling 1) Chu Jun-Hao 1) Cui Li-Jie 2) Zeng Yi-Ping 2) Zhu Zhan-Ping 2) Wang Bao-Qiang 2) 1)(State Key Laboratory for Infrared Physics, Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200083, China) 2)(Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100083, China)

【机构】 中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室中国科学院半导体研究所中国科学院半导体研究所 上海200083上海200083北京100083北京100083

【摘要】 在变缓冲层高迁移率晶体管 (MM_HEMT)器件中 ,二维电子气的输运性质对器件性能起着决定作用 .通过低温下二维电子气横向电阻的量子振荡现象 ,结合变温度的Hall测量 ,系统研究了不同In组分沟道MM_HEMT器件中子带电子迁移率和浓度随温度的变化关系 .结果表明 ,沟道中In组分为 0 6 5的样品 ,材料电学性能最好 ,In组分高于 0 6 5的样品 ,严重的晶格失配将产生位错 ,引起迁移率下降 ,大大影响材料和器件的性能 .

【Abstract】 Transport properties of two-dimensional electron gas (2DEG) are crucial to metamorphic high-electron-mobility transistors (MM-HEMT). We have investigated the variations of subband electron mobility and concentration versus temperature from Shubnikov-de Hass oscillations and variable temperature Hall measurements. The results indicate that the electrical performance is the best when the In content is 0.65 in the channel for MM-HEMT. When the In content exceeds 0.65, a large lattice mismatch will cause dislocations and result in the decrease of mobility and the fall of performance in materials and devices.

【基金】 国家重点基础研究发展规划项目 (批准号 :2 0 0 1GB3 0 95 0 6)资助的课题~~
  • 【文献出处】 物理学报 ,Acta Physica Sinica , 编辑部邮箱 ,2003年11期
  • 【分类号】O472.4
  • 【被引频次】1
  • 【下载频次】69
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