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慢正电子束注入多孔硅材料的Monte Carlo模拟

The Monte Carlo Simulation of Slow Positron Beam Implating Porous Silicon Materials

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【作者】 梁波马莉黄长虹

【Author】 LIANG Bo, MA Li, HUANG Chang-hong (School of Physics and Technology, Wuhan University, Wuhan 430072, Hubei, China)

【机构】 武汉大学物理科学与技术学院武汉大学物理科学与技术学院 湖北武汉430072湖北武汉430072湖北武汉430072

【摘要】 建立了慢正电子束注入多孔硅材料的MonteCarlo模型 ,研究了在该材料中不同孔洞的直径、孔洞体积百分比对正电子几率分布的影响 ,得到了相应的正电子深度分布曲线 .同时分析了不同能量正电子平均注入深度的分布 ,通过适当的标度 ,得到了统一描述正电子分布的公式 ,为慢正电子束对多孔材料的实验和理论研究提供有用的数据和计算模型 .

【Abstract】 We construct the monte carlo mode about slow positron beams implanting porous silicon materials,we have investigated how various void size and the ratio of various void volume to bulk volume effected the distributed probability of positron,gained corresponding positron implatation profiles,At the same time we studied the mean positron implatation depth distributions at various implanting energy.After scaling proprietly,we get a uniform scaling formula which can describ the positron implatation profiles gained by simulation.Our work can provide some useful referential data and a model for the research of porous matevials using slow positron beam technology.

【基金】 国家自然科学基金资助项目 ( 10 0 75 0 3 7)
  • 【文献出处】 武汉大学学报(理学版) ,Wuhan University Journal(Natural Science Edition) , 编辑部邮箱 ,2003年03期
  • 【分类号】O562.5
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