节点文献

实现工艺映射的新方法

A New Method for Technology Mapping

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 张镭林争辉吕宗伟

【Author】 ZHANG Lei, LIN ZhengHui, LU¨ Zongwei(LSI Research Institute, Shanghai Jiaotong University, Shanghai, 200030, P R China)

【机构】 上海交通大学大规模集成电路研究所上海交通大学大规模集成电路研究所 上海 200030上海 200030上海 200030

【摘要】 逻辑综合中,工艺映射是关键的一步。过去,基于树的映射由于其速度快、算法简洁而被广泛使用。但是,将电路结构划分为树,破坏了电路结构,缩小了映射的解空间。双态覆盖(BinateCovering)能充分利用门级网表的结构特性,使工艺映射后的电路具有更好的性能。

【Abstract】 Technology mapping is an important step in logic synthesis In the past, treebased mapping was widely used because of its high speed and conciseness However, the circuit structure is destroyed in this method and better implementations are neglected With binate covering, the structural characteristics of the gatelevel netlist can be explored in detail, and the circuit after technology mapping has better performance

【关键词】 工艺映射双态覆盖逻辑综合
【Key words】 Technology mappingBinate coveringLogic synthesis
【基金】 美国国家科学基金资助项目(5978EastAsiaandPacificProgram-9602485);国家"九五"微电子重点科技攻关项目(96-738-01-09-02)
  • 【分类号】TN405
  • 【被引频次】3
  • 【下载频次】64
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络