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pH值对聚四氨基酞菁铜膜电化学性质的影响

Effect of pH on electrochemistrical properties of poly copper tetraaminophthalocyanine film

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【作者】 武雪梅栾积毅李敬芬武冬梅

【Author】 WU Xue-mei, LUAN Ji-yi, LI Jing-fen, WU Dong-mei (1.Jiamusi paper company Ld.Jiamusi 154000,China;2.Jiamusi University, Jiamusi 154002, China)

【机构】 佳木斯造纸股份有限公司佳木斯大学化学与药学院佳木斯大学化学与药学院 黑龙江佳木斯154002黑龙江佳木斯154002黑龙江佳木斯154002

【摘要】 目的 :研究了 p H值对聚四氨基酞菁铜 (p- Cu TAPc)膜电化学性质的影响。方法 :用循环伏安法在玻碳电极上制备了 p- Cu TAPc膜 ,并用循环伏安法对其在不同酸度下的氧化还原性质进行研究。结果 :发现其氧化还原电位与 p H值存在线性关系 ,斜率为 - 2 8m V/p H。结论 :质子和氢氧根离子参与了氧化还原反应。

【Abstract】 Objective: To investigate the effect of pH on the electrochemistrical properties of poly-copper tetraaminophthalocyanine (P-Cu TAPc)film. Method: The p-CuTAPc film was prepared by anodic electroploymerization on glass carbon electrode. The electrochemistry property of the p-CuTAPc film in B-R buffer solution was studied by using CV. Result: The electrochemistry property of the p-CuTAPc film was related to the solution acidity . The redox potentials were found to be pH dependent with a slope of -61 mv/pH. Conclusion: Both H + and OH - participate in the redox reaction of the p-CuTAPc film.

  • 【文献出处】 黑龙江医药科学 ,Heilongjiang Medicine and Pharmacy , 编辑部邮箱 ,2003年03期
  • 【分类号】O631
  • 【被引频次】2
  • 【下载频次】81
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