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GaN基MSM结构紫外光探测器
 
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【作者】
王俊
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赵德刚
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刘宗顺
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冯淦
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朱建军
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沈晓民
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张宝顺
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杨辉
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【作者单位】
中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点联合实验室
;
中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点联合实验室 北京
;
【文献出处】
中国科学G辑:物理学、力学、天文学
,
Science in China(Series G)
,
编辑部邮箱
2003年 01期
期刊荣誉:中文核心期刊要目总览 ASPT来源刊 CJFD收录刊
【中文关键词】
GaN
;
MSM结构
;
紫外光探测器
;
响应度
;
【摘要】
在蓝宝石(0001)衬底上采用低压金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法生长GaN外延层,以此为材料,制作了暗电流很小的金属-半导体-金属(MSM)结构紫外光探测器。测量了该紫外光探测器的唁电流和360nm波长光照下的光电流曲线、光响应曲线和响应度随偏压变化的曲线。该紫外光探测器在5V偏压时暗电流为1.03 nA,在10V偏压时暗电流为15.3nA。在15V偏压下该紫外光探测器在366nm波长处的响应度达到0.166 A/W,在365nm波长左右有陡峭的截止边。从0~15V,该紫外光探测器在360nm波长处的响应度随着偏压的增加而增大。详细地分析了该紫外光探测器的暗电流、光电流、响应度随偏压变化的关系。
【基金】
国家“八六三”计划基金
【分类号】
O439
【正文快照】
随着晶体生长技术的发展,GaN材料已经受到世界各国科学家的极大重视.与成熟的半导体材料si相比,由于GaN的宽禁带、低介电常数、耐高温性、耐腐蚀性、抗辐射等特性,非常适合制作抗辐射、高频、大功率和高密度集成的电子器件;又由于InN,GaN,AIN的禁带宽度分别为1 .9,3.4,6.2e从覆
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