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步进扫描投影光刻机工件台和掩模台的进展

Proress of Wafer Stage and Reticle Stage for Step-and-Scan-Lithography System

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【Author】 LIU Dan CHENG Zhaoyu GAO Haijun HUANG Huijie ZHAO QUANzhong SHEN Wei (Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, The Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800)

【机构】中国科学院上海光学精密机械研究所；中国科学院上海光学精密机械研究所上海201800；上海201800；上海201800；

【摘要】着重介绍了当前国外步进扫描投影光刻机的工件台和掩模台的发展状况,并对套刻精度和整机精度进行了分析。更多还原

【Abstract】 Recent progress in technology of wafer stage and reticle stage used in step-and-scan lithography system is introduced, and the overlay accuracy and the accuracy of the overall system are analyzed.更多还原

【关键词】步进扫描投影光刻机；工件台；掩模台；套刻精度；
【Key words】 step-and-scan lithography system； wafer stage； reticle stage； overlay accuracy；

【文献出处】激光与光电子学进展 ,Laser & Optronics Progress , 编辑部邮箱 ,2003年05期

【分类号】TN305.7
【被引频次】71
【下载频次】756

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